Na1 ASML, 인텔에 '하이 NA EUV' 우선 공급... 삼성전자는? 네덜란드의 글로벌 반도체 장비 기업인 ASML의 차세대 극자외선(EUV) 노광 장비가 미국 반도체 기업 인텔로 처음 출하됐다. 2나노미터(nm, 10억분의 1m) 첨단 반도체 양산을 계획 중인 삼성전자는 인텔보다 뒤늦게 이 장비를 받게 되면서 거센 추격을 받게 될 것으로 보인다. 로이터 통신은 21일(현지시간) ASML이 이날 새로운 ‘하이 NA EUV’(High-NA EUV) 리소그래피 시스템의 첫 번째 제품을 인텔사로 배송했다고 보도했다. 트윈스캔 EXE:5000 EUV 스캐너는 AMSL 최초의 파일럿 하이-NA 스캐너로, 최근 네덜란드를 국빈 방문해 직접 ASML 본사를 찾은 윤석열 대통령도 언급했던 초미세 공정용 차세대 장비다. 앞서 인텔은 2018년에 처음 이 장비를 주문했다. 또한 2022년에.. 2023. 12. 27. 이전 1 다음
